چکیده

در این کار، تاثیرات دمای تنش زدایی روی خواص نوری و ساختاری فیلم های نازک ZnO با جزئیات مورد بحث قرار گرفته است. فیلم های نازک ZnO روی لایه شیشه ای با استفاده از روش پوشش دهی دورانی تهیه شده اند. روی استات دی هیدرات، ایزوپروپیل الکل و دی اتانول آمین به ترتیب به عنوان ماده آغازگر، حلال و تثبیت کننده استفاده شد. فیلم های آماده شده در درجه حرارت های مختلف از °C 350 تا °C 550 تنش زدایی شدند. ساختار بلوری و آرایش یافگی فیلم ها با استفاده از روش پراش اشعه X (XRD) مورد بررسی قرار گرفت. فرمول شرر برای محاسبه اندازه دانه فیلم ها به کار برده شد. از طیف UV لایه ممنوعه انرژی نوری ارزیابی شد (3.27 eV-3.31eV). مورفولوژی سطح فیلم با میکروسکوپ الکترونی روبشی (SEM) آنالیز شد.

1-مقدمه

فیلم های نازک ZnO یک ماده نیمه هادی نوع n با انرژی نوار ممنوعه مستقیم پهن برابر 3.36 eV هستند [1]. به دلیل داشتن انرژی برانگیختگی ایجاد پیوند بالا در حدود 60 meV، می توان آنها را به عنوان الکترودهای شفاف در صفحه نمایش و نیمه هادی اکسید فلزی در دستگاه های الکترونیک نوری به کار برد. ZnO یک ماده پیزوالکتریک بسیار عالی است که به طور عمده در قطعات امواج صوتی سطحی و دستگاه های پیزوالکتریک استفاده می شود...

 میتوانید از لینک ابتدای صفحه، مقاله انگلیسی را رایگان دانلود فرموده و چکیده انگلیسی و سایر بخش های مقاله را مشاهده فرمایید